金刚石膜制备与应用(下卷)
作者:
吕反修
ISBN:
9787030428264
出版日期:
2015-01
版次:
1
中图分类号:
TB
学科分类:
丛书:
附注信息:
本书比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积(CVD)金刚石膜的制备、组织结构和性能表征,金刚石膜化学气相沉积理论,以及在电学(电子学)热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用,在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本书分六篇,共29章,第一篇,金刚石膜的制备;第二篇,金刚石膜组织结构和性能表征;第三篇,金刚石膜沉积理论;第四篇,金刚石膜的应用;第五篇,纳米金刚石膜制备与应用;第六篇,金刚石相关材料。 本书可供相关专业大专院校师生,研究院所以及相关领域企业的管理及应用与研发人员参考。”

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